Octan 4-etenylofenolu CAS 2628-16-2

P-acetoksystyren może być stosowany do syntezy poliparahydroksystyrenu jako głównego składnika fotomaski (fotomaski). Serie poli-p-hydroksystyrenu z amplifikowanymi chemicznie fotorezystami są obecnie głównymi produktami fotorezystancyjnymi na świecie i są jedną z kluczowych technologii przetwarzania fototrawiących układów scalonych i chipów produkcyjnych. Technologia fototrawienia jest rozwijana od produkcji szerokości linii 0,3-0,28 μm do głębokiego światła ultrafioletowego (długość fali 248 nm) w celu uzyskania szerokości linii 0,18 μm, a ultra głębokie światło ultrafioletowe (długość fali 193 nm) można wykorzystać do śledzenia szerokość linii do mikroukładu 0,11 μm. Fotorezyst 248 nm zwykle wykorzystuje pochodną poli-p-hydroksystyrenu jako żywicę błonotwórczą, sól jodonową arylu lub sól sulfoniową jako generator fotokwasu, stosując chemiczną technologię amplifikacji w celu uwolnienia generatora fotokwasów w świetle Kwas, a następnie kwas katalizuje sieciowanie polimeru ( ujemne żelowanie) lub reakcja odbezpieczania (dodatnia żelatynizacja), tym samym znacznie zwiększając wrażliwość na światło.